描述：日本原裝光馳OTFC-1300MM帶涉頻源含安裝鍍膜機(jī) 光學(xué)機(jī)
1. 用途：此真空鍍膜機(jī)是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光學(xué)鍍膜機(jī)，應(yīng)用于鍍膜機(jī)等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，運(yùn)動(dòng)模式的膜均勻性好，鍍層的臺(tái)階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個(gè)運(yùn)動(dòng)的常用模式。排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵，擴(kuò)散泵，管道和閥門組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機(jī)械泵和擴(kuò)散泵。因此，不僅在較短的時(shí)間內(nèi)低壓力以保證快速的工作循環(huán)的排氣系統(tǒng)，還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設(shè)備包括測(cè)量真空薄膜的厚度和控制
3.特征：磁密封驅(qū)動(dòng)的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布
4.配備：配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)；防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)。
5.性能：達(dá)到壓強(qiáng)7.0E-5Pa以下
6.配置參數(shù)：
真空室 Ф2350mm×H 1400mm
基板架 Ф2200 mm
基板架轉(zhuǎn)速 20rpm
晶振式膜厚計(jì) 6點(diǎn)式?晶傳感器
蒸發(fā)源電?槍1臺(tái)，熱阻蒸達(dá)到壓強(qiáng) 7.0E-5Pa 以下
排強(qiáng)時(shí)間 15分以下（壓強(qiáng)?2.0×10-3 Pa）
7.工作條件：
設(shè)備尺寸約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)
電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA
水流量 220升/分以上
空氣壓力 0.5-0.7mpa
重量約12000kg
訂購(gòu)說(shuō)明
機(jī)器設(shè)備，檢測(cè)設(shè)備等大型機(jī)器設(shè)備線下交易
1、可聯(lián)系銷售人員到工廠看機(jī)，簽訂機(jī)器購(gòu)買合同，付合同定金，進(jìn)行試機(jī)
2、若不方便到工廠看機(jī)器，可聯(lián)系銷售人員，簽訂合同，可讓銷售人員拍攝機(jī)器工作視頻進(jìn)行確認(rèn)，全款發(fā)貨
因設(shè)備面對(duì)全國(guó)客戶，設(shè)備價(jià)格不含運(yùn)費(fèi)，不含稅，含稅可另外說(shuō)明，加10點(diǎn)增值稅
工廠，3天之內(nèi)發(fā)貨，可協(xié)助裝車叫物流運(yùn)輸
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